某光电器件电源芯片生引发产厂在晶圆处置过程中中，在使用硅烷实现硅外加衍生，尾气排放洗涤剂塔引发高密度含硅污废水 处置技术。污废水 处置技术存在pH冲击大（2-11）、硅含氧量高的特质，普通处置技术易有硅垢拥堵故障 。 工业废水材料及的来源 废液常见物质为： 可溶性高，溶于水的性硅酸盐 ：SiO₂酸度达1000-1500mg/L 硫酸钠/氢空气氧化钠 ：清洗剂塔腐蚀性清洗剂液杂质 颗粒状硅 ：納米级SiO₂电解质溶液 痕量砷 ：奶茶原料溶物携带 治理工艺设备流程步骤 科学创新选用"两极采和+膜进行过滤+蒸发掉凝结"艺： 一級结合 ：用CaO调理pH至4-5，生产硅酸钙沉淀出的，硅彻底清除率60%。 一级采和 ：加Na₂CO₃将pH增加至9，进一大步沉淀物中多余硅，串联用镁剂除砷。 反渗透装置整体 ：0.02μm淘瓷膜净化奈米级硅粉末，通量增强在80LMH。 MVR蒸发掉器 ：溶缩高盐废污水，凝结出Na₂SO₄副类产品，水造纸废水处理率超90%。 进而效用 总硅从1500mg/L高于5mg/L下类 砷水分含量从0.8mg/L降落到0.01mg/L 平台无积灰运作高于2年 第一年收废硫酸钠钠结晶约800吨