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电子半导体废水怎么处理|电子半导体废水如何处理

该晶圆研制厂地属华南中北部,其主要分娩89英寸半导体技术晶圆,平均废污水污染物量约800吨。仍然分娩时中选择多氢氧化钠进行晶圆蚀刻,致使废污水面氟化物质量浓度达200-300mg/L,远超国家地区污染物标(10mg/L之下)。 废水处理工艺营养成分及由来 生活污水最主要产于3个重要环节: 晶圆蚀刻生产工艺 :含高渗透压氟化物(HF)、硝酸钠及一定量巨资属 催化机械厂打磨抛光(CMP)生产废水 :含納米级硅颗料、可挥发络合剂 设施洗掉废液 :含异丙醇、氧化还原电位等有机化学物 进行处理工艺设备流程图 选用"化学物质乳浊液+沥青混凝土乳浊液+深度.过滤清洁"两级处置系统的: 一級进行处理 :添加氯化钙和氢硫化钙,变成氟化钙发展,氟化物出掉率达85% 两级进行处理 :生成PAC(缔合氯化铝)和PAM(聚丙酰胺),除掉氢氧化铁态感染物 一级解决 :能够多媒质过滤装置器和活性酶类炭树脂吸附,水流氟化物浓度值稳定可靠在8mg/L低于 重要的设配比如:pH半自动改善系统软件、斜管沉积池、板框板框压滤机(废水脱水过滤)。 终极功效 投资项目加载四年监测技术数据统计彰显: 氟化物人均氧化还原电位:7.2mg/L(不高于的国家准则) COD清理率:92% 污泥处理水分含量率:≤65% 年回笼氟化钙副食品约150吨,构建网络污泥处置利用

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